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介紹:
概要
Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI410/WNI411鍍鎳控制器是應用光電子學(xué)的原理來(lái)量度溶液中的銅/鎳濃度的在線(xiàn)分析添加儀。Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI鍍鎳控制器應用范圍廣泛,當中包括應用在化學(xué)鍍槽或微蝕刻槽(包括氧化還原類(lèi)型的)。
WCU410可以通過(guò)菜單切換化學(xué)鍍銅或微蝕刻應用而無(wú)需購置另一臺控制器。另外它能減少人工滴定檢驗的需要從而提高效益;在應用于微蝕刻工藝時(shí),它能通過(guò)減少更換槽內液體的頻率而提高生產(chǎn)力。
WNI410可僅提供鍍鎳控制選項,也可添加pH控制選型(WNI411型)。設有兩個(gè)可控制泵之獨立輸出信號,專(zhuān)為鎳鍍液和還原劑而設;另一個(gè)輸出專(zhuān)為pH而設。每個(gè)輸出端口都可以統計泵的運作時(shí)間、總流量、和金屬離子周轉量。
綜合數據記錄能驗證系統性能。只需一個(gè)U盤(pán)就可以提取鍍銅鍍鎳的測量數據、事件日志、繼電器狀態(tài)。也可透過(guò)U盤(pán)下載數據到個(gè)人計算機,沒(méi)有比這更方便的了。
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